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  • 透射電鏡高溫力電原位系統(tǒng)通過(guò)MEMS芯片對(duì)樣品施加力學(xué)、電場(chǎng)、熱場(chǎng)控制,在原位樣品臺(tái)內(nèi)構(gòu)建力、電、熱復(fù)合多場(chǎng)自動(dòng)控制及反饋測(cè)量系統(tǒng),結(jié)合EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多種不同模式,實(shí)現(xiàn)從納米層面實(shí)時(shí)、動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)樣品在真空環(huán)境下隨溫度、電場(chǎng)、施加力變化產(chǎn)生的微觀(guān)結(jié)構(gòu)、相變、元素價(jià)態(tài)、微觀(guān)應(yīng)力以及表/界面處的結(jié)構(gòu)和成分演化等關(guān)鍵信息。

    訪(fǎng)問(wèn)次數(shù):1802
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2023-12-27
  • 透射電鏡高傾角熱電原位系統(tǒng)通過(guò)MEMS芯片對(duì)樣品施加熱場(chǎng)、電場(chǎng)控制,在高傾角樣品臺(tái)內(nèi)構(gòu)建熱電復(fù)合多場(chǎng)自動(dòng)控制及反饋測(cè)量系統(tǒng),結(jié)合使用EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多種不同模式,實(shí)現(xiàn)從納米甚至原子層面實(shí)時(shí)、動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)樣品在真空環(huán)境下隨溫度、電場(chǎng)變化產(chǎn)生的微觀(guān)結(jié)構(gòu)、相變、元素價(jià)態(tài)、微觀(guān)應(yīng)力以及表/界面處的原子級(jí)結(jié)構(gòu)和成分演化等關(guān)鍵信息。

    訪(fǎng)問(wèn)次數(shù):1792
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2023-12-27
  • 透射電鏡雙傾光熱原位系統(tǒng)通過(guò)MEMS芯片和光纖引入的光源在原位樣品臺(tái)內(nèi)構(gòu)建熱、光復(fù)合多場(chǎng)自動(dòng)控制及反饋測(cè)量系統(tǒng),結(jié)合EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多種不同模式,實(shí)現(xiàn)從納米甚至原子層面實(shí)時(shí)、動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)樣品在真空環(huán)境下隨溫度、光場(chǎng)變化產(chǎn)生的微觀(guān)結(jié)構(gòu)、相變、元素價(jià)態(tài)、微觀(guān)應(yīng)力以及表/界面處的原子級(jí)結(jié)構(gòu)和成分演化等關(guān)鍵信息。

    訪(fǎng)問(wèn)次數(shù):2283
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2023-12-27
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