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透射電鏡力電原位系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述:透射電鏡力電原位系統(tǒng)通過(guò)MEMS芯片在原位樣品臺(tái)內(nèi)構(gòu)建力、電復(fù)合多場(chǎng)自動(dòng)控制及反饋測(cè)量系統(tǒng),結(jié)合EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多種不同模式,實(shí)現(xiàn)從納米層面實(shí)時(shí)、動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)樣品在真空環(huán)境下隨電場(chǎng)、施加力變化產(chǎn)生的微觀結(jié)構(gòu)、相變、元素價(jià)態(tài)、微觀應(yīng)力以及表/界面處的結(jié)構(gòu)和成分演化等關(guān)鍵信息。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-12-27
  • 訪  問(wèn)  量: 1884

詳細(xì)介紹


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我們的優(yōu)勢(shì)

力學(xué)性能

1.高精度壓電陶瓷驅(qū)動(dòng),納米級(jí)別精度數(shù)字化精確定位。

2.可進(jìn)行壓縮、拉伸、彎曲等微觀力學(xué)性能測(cè)試。

3.nN級(jí)力學(xué)測(cè)量噪音。

4.具備連續(xù)的載荷-位移-時(shí)間數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)自動(dòng)收集功能。

5.具備恒定載荷、恒定位移、循環(huán)加載控制功能,適用于材料的蠕變特性、應(yīng)力松弛、疲勞性能研究。


優(yōu)異的電學(xué)性能

1.芯片表面的保護(hù)性涂層保證電學(xué)測(cè)量的低噪音和精確性,電流測(cè)量精度可達(dá)皮安級(jí)。

2.MEMS微加工特殊設(shè)計(jì),電場(chǎng)和力學(xué)加載同時(shí)進(jìn)行,相互獨(dú)立控制。


智能化軟件

1.人機(jī)分離,軟件遠(yuǎn)程控制納米探針運(yùn)動(dòng)。

2.自動(dòng)測(cè)量載荷-位移數(shù)據(jù)。



技術(shù)參數(shù)

類(lèi)別項(xiàng)目參數(shù)
基本參數(shù)
桿身材質(zhì)
高強(qiáng)度鈦合金
控制方式高精度壓電陶瓷
傾轉(zhuǎn)角α≥±20°,傾轉(zhuǎn)分辨率<0.1°(實(shí)際范圍取決于透射電鏡和極靴型號(hào))
適用電鏡Thermo Fisher/FEI, JEOL, Hitachi
適用極靴ST, XT, T, BioT, HRP, HTP, CRP 適用極靴
(HR)TEM/STEM支持
(HR)EDS/EELS/SAED支持








應(yīng)用案例


圖片4.png圖片5.png



鎢納米柱原位力學(xué)壓縮過(guò)程


鎢納米柱受力發(fā)生彈性形變過(guò)程中,彈性形變和塑性形變過(guò)程強(qiáng)度和塑性是結(jié)構(gòu)材料應(yīng)用的關(guān)鍵特征,位錯(cuò)在調(diào)控材料強(qiáng)度和塑性的過(guò)程中扮演了重要角色,一般來(lái)說(shuō),位錯(cuò)滑移越難,材料的強(qiáng)度就越大,而第二相常用來(lái)阻礙位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)以提高材料強(qiáng)度。例如,陶瓷相可以用于金屬?gòu)?qiáng)化,因?yàn)榛w與第二相之間彈性模量的巨大差異和嚴(yán)重的界面失配能夠起到金屬材料強(qiáng)化的作用,遺憾的是硬的第二相一般是在犧牲延展性的條件下實(shí)現(xiàn)了強(qiáng)化作用。此外,界面處嚴(yán)重的位錯(cuò)塞積可能會(huì)導(dǎo)致局部的應(yīng)力集中,導(dǎo)致材料在服役過(guò)程中突然失效。從本質(zhì)上講,既需要第二相阻止位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng),還要一定程度上兼容位錯(cuò)滑移的可塑性。通過(guò)原位力學(xué)測(cè)試,可以更方便研究材料界面應(yīng)變場(chǎng)變化以達(dá)到優(yōu)化復(fù)合材料的強(qiáng)度和塑性的目的。


















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